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重生之科技崛起

作者:紫雨涵 | 分类:科幻 | 字数:96.6万

第134章 开眼界

书名:重生之科技崛起 作者:紫雨涵 字数:3029 更新时间:2024-11-09 14:17:17

“我已经听我们Boss说了,你们中国目前也是有晶圆厂的,那么有些东西我就省略不讲了。下面我就讲讲你们面前这座氧化炉吧。大家知道,对硅半导体而言,只要在高于或等于1050的炉管中,通入氧气或水汽,自然

可以将硅晶的表面予以氧化,生长所谓干氧层(dry/gateoxid)或湿氧层(wet/fieldoxid),当作电子组件电性绝缘或制程掩膜之用。氧化是半导体制程中,最干净、单纯的一种;这也是硅晶材料能够取得优势的特性之一。硅氧化层耐得住8501050的后续制程环境,是因为该氧化层是在前述更高的温度成长;不过每生长出1微米厚的氧化层,硅晶表面也要消耗掉0.44微米的厚度。

氧化可以说是所以后续工艺的基础,硅氧化的质量决定了后续晶圆加工的质量,所以我们在氧化制程过程中也会遵循一些特点,当然,这也是我们Intel的独门诀窍。”说完,小白同志在仔细观察张国栋他们这群人的反映,让他得意的是这群来自中国的土包子果然都竖起了耳朵,嘿嘿,真以为独门诀窍是这么好学的么,即使告诉他们一点经验也无关紧要吧,不过当他看到张国栋那种淡然的表情又恼怒起来,心中更是涌起了一定要给张国栋一个震撼看看的情绪,这也让他不知不觉中将很多原本不打算讲的事情给讲了出来,所以,冲动是魔鬼啊。

“氧化层的成长速率不是一直维持恒定的趋势,制程时间与成长厚度之重复性是较为重要的考量。后长的氧化层会穿透先前长地氧化层而堆积在上面。换句话说,氧化所需之氧或水汽,势必也要穿透先前成长的氧化层到硅质层。所以如果要生长出更厚的氧化层。遇到的阻碍也越来越大。一般而言,很少成长2微米厚以上之氧化层。注意,是2微米,这还是经过我们Intel苦心钻研的结果,以前连2微米都很难达到。干氧层主要用于制作金氧半其实在学术或研发单位中,电路上布局是非常简易地,一套电路布局可全部写在一片光罩中。甚至可以多次多重复。加上加上学术上使用硅晶圆尺寸较小,配合使用的光罩本来就不大。所以搭配使用的硅晶圆曝光机台为一般的光罩对准机,而且据我们Intel自己的研发人员说效果还是蛮不错的。当然,换句话说。一片晶圆只需一次对准曝光,便可进行之后地显影及烤干程序。当然只是一种简化的程序和步骤,但是效果还是很不错的。不过在我们业界中,使用的晶圆那要比学术上地大得多,学术上用的晶圆片几乎就是我们地下脚料。当然,光罩的大小一般是固定化的,我们不可能任意造出5寸或11寸大小的光罩来进行对准曝光:一来电子束书写机在制备这样大的光罩时,会耗损巨量的时间。极不划算;二来,大面积光罩进行光蚀刻曝光前必须要与晶圆对准,要知道大面积精密定位及防震等问题,在业界看来是极为棘手的,为此所耗费地花费也是极大和极不划算的!所以我们工业界一般采用步进机进行对准曝光;也就是说,即使晶圆大到6寸或寸。但光罩大小还是只需要小小的1寸见方。这样做有明显的优点。一来光罩制备快速,二来小面积对准的问题也比较少;只是要曝满整片晶圆。可能要往复花上数十次对准-曝光-移位的重复动作。但即便如此,由于每次对准-曝光-移位这个过程仅费时1秒左右,一片晶圆地总曝光时间仍控制在1分钟以内,而保持了工厂地高投片率(hghthroughpu;即单位时间内完成制作之硅芯片数。)虽然不知道贵厂的晶圆是几寸地,但是我觉得你们最好还是一开始就使用步进机,毕竟也可以为后面积累一点经验。”小白同志是难得的说了几句诚恳话,不过他说得也确实有道理,虽然龙腾一下子上马6寸的项目有困难,但就像小白说的一样,经验!设备的使用也是需要经验的!张国栋认同的点了点头,主管晶圆的屠红刚博士那双眼睛又开始发起光来,本来自己手下的都去龙晶电子去实习了让他这个光杆司令是很不爽的,不过在听说张国栋要重新建设一座新的晶圆厂后他马上开心了起来,以后自己也就是一方诸侯了,现在又听说要买好设备,他当然高兴!

“第四块儿是光阻涂布。说实在的,这块儿很重要。晶圆上微米厚度等级的光阻,是采用旋转离心的方式涂布上去。其典型程序包括:晶圆表面前处理:即在150C下烘烤一段时间。若表面无氧化层,要另外先上助粘剂,如HMDS,再降回室温。换言之,芯片表面在涂敷光阻前要确保是亲水性。第二步是送晶圆上真空吸附的转台,注入光阻,开始由低转速甩出多余的光阻并均布之,接着以转速数千转每秒,减薄光阻至所需厚度。第三步将晶圆表层光阻稍事烤干定型,防止沾粘。但不可过干过硬,而妨碍后续的曝光显影,这也是个度的问题,需要你们去反复实验,不可能一蹴而就,这没有一个固定的标准。一般光阻涂布机的涂布结果是厚度不均。尤其在晶圆边缘部份,可能厚达其它较均匀部份的光阻3倍以上。另外,为了确保光阻全然涂布到整片晶圆,通常注入光阻的剂量,是真正涂布粘着在晶圆上之数十甚至数百倍,极其可惜;因为甩到晶圆外的光阻中有机溶剂迅速挥发逸散,成份大变,不能回收再使用。第五块儿也就是最后一块儿是厚光阻。德国Karl-Sus公司开发了一种新型的光阻涂布机,称为GYRSET。他们正在向我们推销,据他们自己说的其卖点在于可减少一半的光阻用量,且得出更均厚的光阻分布。其原理极为单纯:只是在真空转台上加装了跟着同步旋转的盖子。如此一来,等于强迫晶圆与盖子之间的空气跟着旋转,那么光阻上便无高转速差的粘性旋转拖曳作用。故光阻在被涂布时,其与周遭流体之相对运动并不明显,只是离心的彻体力效果,使光阻稳定地、且是呈同心圆状地向外涂布。”

“好啦,时间也差不多了,这身行头穿着也有一定的分量,先生们,请随我离场吧。”张国栋真怀疑这家伙是个德国人,要知道这世界只有严谨得像钢条的德国人才会把时间恰得这么准,完全没有超过一分钟。

尽管还有点意犹未尽,但张国栋知道,这已经是人家给了虞有程天大的面子了,如果不是虞有程,就张国栋这种单单的一个合作伙伴身份,那绝对不可能让他们参观得这么仔细的。虽然没有得到一个字的资料,但是这一行大大的开了龙腾科技的这些骨干的眼界。人说眼界决定一切,从此以后龙腾科技开始告别那种作坊式的科研和生产方式,彻底走入现代化,可以说这趟Intel之行还是大大的有功的!

从Intel出来,已经是中午十一点多快十二点了,这个时候还没到后世美国垃圾食品占据中国主流市场的年代,所以这些人可是一百个吃不惯美国食品的,好在有华人的地方就有唐人街,虽然没有洛杉矶这样的主流唐人街热闹,但好歹找到那么个中餐馆还是不难,所以张国栋就带着这么一大群人浩浩荡荡的杀向唐人街,幸亏他们中是老的老,小的小,而且还有些是步履蹒跚,否则还指不定让人误会成黑社会呢。

按道理Intel是管饭的,不过他们以吃不习惯为借口给出来了,毕竟谈合作是老板张国栋的事情,和他们这些技术人员是屁事儿也没关,如果张国栋是个一点技术也不懂的老板他们说不定还得在旁边指点一下,以防被骗。可现在这小屁孩儿是啥都懂,而且往深度上走张国栋也是厉害非常,人家说事有反常必有妖,可张国栋这小子比妖还厉害,也就由不得他们这群平常鼻孔朝天的家伙不佩服了。

中餐馆的老板眼见来了这么大一群同胞,俗话说得好,老乡见老乡,两眼泪汪汪,可是他们这样的人什么没见过,自然

不会一见老乡就泪汪汪了,可是激动还是难免的,催促伙计的声音都大了一些。这么大一群人涌入,让中餐馆这种理论上小本经营的地方一下子满了起来。张国栋前世也在美国呆过,自然

能够理解这样一种激动的心情。正好队伍里面也有四川人,这让老板一口子川话就丢了出来。